EVG 推新款無光罩曝光機,滿足先進封裝彈性設計需求

作者 | 發布日期 2020 年 09 月 24 日 9:56 | 分類 IC 設計 , 尖端科技 , 晶圓 Telegram share ! follow us in feedly


EV Group(EVG)推出全新 LITHOSCALE 無光罩曝光(MLE)系統,這是第一個採用 EVG 無光罩曝光技術的產品。LITHOSCALE 由 EVG 開發,以滿足需要高靈活性或產品變化的曝光微影需求,像是先進封裝、微機電、生物醫學和 IC 基板製造等。截至目前,EVG 已收到多張 LITHOSCALE 的訂單,預計將於今年底陸續向客戶出貨。

如今,3D 整合和異質整合對於實現半導體產品效能的持續改進已然越來越重要,這將導致封裝複雜性的增加以及更多元的封裝方法,在設計上則需要有更大的靈活變化性,而晶片級和晶圓級設計能力也需同時應用在後段微影製程。

還有像是 MEMS 製造的複雜產品組合,也為微影製程帶來挑戰。在 IC 基板和生物醫學上,對更高程度的圖案靈活性和快速原型製作的需求也正在成長;快速原型樣品生產在生物技術應用中也將日趨重要,進而推動了高度靈活性、可擴展性和「隨時可用」曝光方法的需求。

不過,基於傳統光罩的微影曝光方案已不適用於其中許多應用,尤其是需要快速進行原型設計和新產品設計測試,或高度客製化的應用。在這些應用中,生產、測試和重工需要多道光罩曝光所需的成本與時間也會快速增加;此外,先進封裝、現有的後段微影系統面臨著非線性、高階基板變形與晶片位移相關的問題,特別是在扇出型晶圓級封裝(FOWLP)中並在晶圓上對晶片進行重構之後。同時,現有市場上的無光罩微影技術並不能提供量產環境所需的生產速度、產品解析度和產品通用性的組合要素。

為此,EVG 研發全新 LITHOSCALE 無光罩曝光機,其無光罩技術消除了與光罩相關的耗材,而可調變固態雷射曝光源旨在實現高冗餘度和壽命長的穩定性,使其幾乎無需維護,也無需重新校準。另外,強大的數位運算功能可實現即時數據傳輸和即時曝光。該系統能夠單獨的對晶片曝光處理,同時快速的全場定位和動態對準可為各種尺寸和形狀的基板提供高度可擴展性。此高度廣泛應用型的無光罩曝光平台將可適用於各種微電子生產應用。

(首圖來源:EVG)