中國 EUV 封鎖有解?ASML 推 7 奈米製程 DUV 作者 黃 敬哲 | 發布日期 2020 年 11 月 09 日 8:01 | 分類 中國觀察 , 國際貿易 , 晶圓 | edit 上週在中國國際進口博覽會現場,半導體設備巨頭 ASML 展出可用於 7 奈米以上先進製程的深紫外曝光機 DUV。 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: 7 奈米 , ASML , DUV , EUV , 浸潤