拓墣觀點》中國本土半導體沉積設備已覆蓋成熟與先進製程，自給率將逐步攀升
作者 | 發布日期 2021 年 09 月 14 日 7:30 | 分類 會員專區 , 材料、設備 , 零組件 line share follow us in feedly line share
拓墣觀點》中國本土半導體沉積設備已覆蓋成熟與先進製程，自給率將逐步攀升


中國建構半導體自主化產業鏈面臨的最大挑戰，無疑是在半導體製造設備、材料等上游領域。在半導體製造設備方面，研磨、蝕刻、清洗設備自給率已突破 20%，部分本土設備商更能提供支援 14 奈米以下先進製程設備，離子植入設備、曝光設備由於技術門檻極高，自給率仍在 5% 以下。

本篇文章將帶你了解 :
  • 2020~2024 年中國沉積設備市場規模 CAGR 預估
  • 中國本土半導體沉積設備供應商概況

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