瑞士半導體污染源控制新創 Unisers,吸引英特爾等投資

作者 | 發布日期 2023 年 02 月 18 日 14:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 line share follow us in feedly line share
瑞士半導體污染源控制新創 Unisers,吸引英特爾等投資


一片先進製程晶圓動輒數千甚至上萬美元,生產過程只要有些許污染源,可能就得報廢整片晶圓。為了預防這狀況,英特爾日前宣布參與減少半導體製程顆粒污染源的瑞士新創 1,400 萬美元 (約新台幣 4.3 億元) 融資。

瑞士新創 Unisers 技術能辨識半導體生產過程導致產品缺陷的污染源,獲 1,400 萬美元融資後,將運用資金生產並交貨首批產品給半導體客戶。

Unisers 表示,正在開發晶圓分析技術,辨識任何造成缺陷的污染源,幫助半導體製造商採取措施,盡可能最短時間解決問題。參與融資的 Intel Capital 表示,半導體製造過程顆粒污染可能導致總價值數十億美元損失,任何可靠解決方案都能很快收回成本。

以往尋找此類污染源的方法既費錢又費時,Unisers 粒子監測技術是使用表面增強漫射辨識污染源,比以前更靈敏檢測出粒子大小、濃度和成分。Intel Capital 董事兼投資營運主管 Jennifer Ard 指出,Unisers 能檢測到以前無法發現的顆粒,大大減少尋找污染源耗費的時間,以優秀污染辨識能力,為保護晶片供應創造新商機。

這次融資除了英特爾感興趣,還有 M Ventures、RSBG Ventures 和 Swisscom Ventures 等也參與投資。M Ventures 老闆 Owen Lozman 指出,先進製程需要工具發現越來越小顆粒,不僅半導體廠,甚至整個供應鏈,所有半導體製造材料或化學品也都有此需求。

2022 年 2 月鎧俠和 WD 共同營運的日本 3D NAND Flash 工廠就因化學品遭污染導致生產中斷,損失估計至少 6.5EB 記憶體容量。Unisers 執行長與創辦人 Ali Altun 指出,很高興完成融資,相信新技術將成為半導體製造供應鏈污染控制的必備解決方案。首批產品交貨時間將於今年出貨。

(首圖來源:shutterstock)