中國加緊研發先進製程設備,擺脫國外公司控制

作者 | 發布日期 2025 年 03 月 25 日 8:45 | 分類 半導體 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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中國加緊研發先進製程設備,擺脫國外公司控制

外媒報導,中國最大半導體公司中芯國際使用老式 DUV 設備,只要美國出口禁令在,中國就不可能取得先進設備,唯一方法就是自己開發製造晶片設備。新報告談到與華為關係密切的公司新凱來 (SiCarrier),正努力使 ASML 不再是 EUV 的主要製造商。

華為幫助下,專注雷射誘導放電等離子體(LDP)的客製化 EUV 原型設備,預定第三季試產。日本經濟新聞報導,未說明設備是否與 SiCarrier 測試中硬體相同。但最新消息,新凱來不只開發一款機器而是多款,以取代 ASML,減少外國控制,幫助中國走出困境。

新凱來獲深圳市政府支持營運。知情人士透露,新凱來專注晶片製造,瞄準 ASML、應用材料、Lam Research 等公司。其他涉及曝光、化學氣相沉積、測量、物理氣相沉積、蝕刻和原子層沉積硬體都在研發中。

新凱來與華為晶片生產和晶片製造設備團隊密切合作,縮小技術差距。還不清楚第一台原型機何時投產,才能生產中國最先進中芯國際 5 奈米製程。

中芯國際還未量產 5 奈米晶圓,因用 DUV 生產耗費太多時間,晶圓良率又低,只會增加生產成本。看來在新凱來、華為和中國政府努力下,或許不用多久中國晶片製造又會大躍進。

(首圖來源:ASML)

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