全球首創!經部攜產業發表面板級全濕式 TGV 解方,瞄準先進封裝需求

作者 | 發布日期 2025 年 04 月 16 日 17:47 | 分類 晶圓 , 晶片 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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全球首創!經部攜產業發表面板級全濕式 TGV 解方,瞄準先進封裝需求

Touch Taiwan 於今(16 日)盛大展開,經濟部產業技術司攜手友達群創達運聯策、誠霸、永光等企業發表共 27 項研發成果,並展出全球首創之「面板級封裝高深寬比全濕式完整解決方案」,突破傳統製程限制,成功將 12 吋填孔深寬比提升至 15,密度提升達五成以上,節省生產成本,未來可應用於高頻高速傳輸之通訊晶片、運算晶片上。

為因應新世代先進封裝需求,經濟部產業技術司補助工研院,成功開發「面板級封裝高深寬比全濕式完整解決方案」,此技術結合面板級封裝(PLP)的大面積、低成本與高效能優勢,更突破深寬比至 15,並採用高速掃描雷射改質與蝕刻技術,使鑽孔速度提升 10 倍,有效提高封裝密度與導通效率,提升封裝效率與達到材料、設備全國產化,更可支援異質整合封裝。

此外,經濟部產業技術司整合設備廠、材料廠、元件廠如聯策、誠霸、超特、立誠、旭宇騰等成立面板級封裝技術研發聯盟與產業鏈,共同開發全濕式製程、材料與設備,提供高深寬比先進封裝製程完整解決方案,為國內設備與材料業者創造新一波合作契機。

經濟部產業技術司指出,這款全濕式面板級封裝設備主要是突破玻璃穿孔(TGV)基板高深寬比製程的限制,成功將 12 吋填孔深寬比從 AR 10 提升至AR 15,運用高速掃描雷射與蝕刻技術,使鑽孔速度提升 10 倍,並確保百萬孔缺陷率低於 1%,良率高達 99%以上,大幅降低成本。另外,更以全濕式金屬化填孔取代 PVD 鍍膜,使生產成本節省 50%,並提供完整鑽孔、填銅、研磨與檢測等解決方案。

經濟部產業技術司還展示「Micro LED 量子點色彩轉換膜」,以無溶劑型量子點墨水與數位曝光擋牆材料將材料利用率提升 2 倍以上,降低成本與碳排放,同時減少 2 道光罩使用,解決傳統黃光製程材料浪費的問題;另外也開發連續景深 3D AR-HUD 技術、5G 行動通訊網路透明陣列天線模組,並將光感眼動技術整合於智慧眼鏡,使科技生活更加便利。

(首圖來源:經濟部產業技術司)

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