超越摩爾時代即將來臨？0.2 奈米將在 2040 年出現

根據韓國半導體工程師協會發表的《반도체 기술 로드맵 2026》（半導體技術路線圖 2026），全球半導體產業正規劃在未來 15 年內，將先進邏輯製程從現行的 2 奈米節點，逐步推進至 2040 年的 0.2 奈米，正式進入埃米（Å）世代。隨著傳統線寬微縮逐漸逼近物理極限，未來製程演進將不再僅仰賴微影技術，而是轉向結構、材料與系統層級的全面革新。

2040 後將迎來埃米世代，EUV 可能迎來瓶頸

從時間軸來看，路線圖預期 2025 年左右進入 2 奈米世代，並於 2031 年前後推進至 1 奈米級；到了 2040 年，邏輯電路線寬將進一步縮小至 0.2 奈米。儘管 0.75NA EUV 可在 2030 年前後帶來更細線寬，但基於微影的物理微縮將逐步趨於飽和，製程競爭的重心勢必轉向晶片架構與整體系統設計。

（Source：ISE，同下）

電晶體與製程朝向立體化

為延續摩爾定律，邏輯元件將由 FinFET 轉向 GAA（Gate-All-Around），並進一步演進至 CFET（Complementary FET）等三維電晶體結構，透過將 PMOS 與 NMOS 垂直堆疊，突破平面密度限制。配合 Monolithic 3D（單晶 3D）製程，以及由 DTCO 邁向 STCO（系統－製程共同最佳化）的設計思維，未來效能提升將來自整體架構重整，而非單一製程節點的微縮。

記憶體同步進化，異質整合與高層數 DRAM 成關鍵

除了邏輯製程，記憶體技術的演進節奏與 0.2 奈米邏輯製程高度同步。在 DRAM 領域，傳統 BCAT 架構預期將在 7～8 奈米遭遇微縮極限，未來將轉向垂直通道電晶體、堆疊式 DRAM、4F² 單元，以及透過 Hybrid Bonding 將 CMOS 電路直接與記憶體陣列結合的 CBA（CMOS Bonded Array）架構，延續密度與效能提升。