美系外資摩根士丹利(大摩)釋出最新外資報告指出,針對市場近期關心的幾項議題進行回答,包括 Rubin Ultra 會以幾顆封裝,以及 Google 2 奈米 TPU 會採用英特爾 EMIB-T 還是台積電 CoWoS-L 等。
首先針對輝達 Rubin Ultra 究竟是每個封裝採用兩顆還是四顆 die?大摩認為,目前設計仍未定案,而兩顆和四顆的設計可能會帶來散熱設計上的差異,而伺服器機架的 GPU 密度也會影響 CPO 在跨機架擴展中的採用程度。此外,核心仍取決於 CoWoS-L 能否以成本效益支援 9-reticle設計,該設計包含四顆運算 die、兩顆 I/O die,以及 8–10 顆H BM。因為整體半導體含量相近,對使用台積電晶圓產能或對日月光、京元電封測需求的假設並不會產生任何實質改變。
至於 Google 2 奈米 TPU 在 9 reticle設計下,會採用英特爾 EMIB-T 還是台積電 CoWoS-L?大摩認為核心問題仍在於「CoWoS-L 能否以具成本效益的方式支援 9 reticle 晶片設計」,但以大型晶片來說,CoWoS 仍是最優解,台積電的路線圖已經規畫到 2027 年支援 9 reticle,因此技術上是可行的,成本應該也會相當合理。
在效能與可靠度部分,大摩也認為 CoWoS 會優於英特爾EMIB-T,但台積電仍需解決中介層(interposer)翹曲等相關問題。
第三個問題是針對博通與 Google 合作公告,對聯發科 TPU 是否有影響?大摩表示,維持對 3 奈米 TPU 的正向看法。根據供應鏈調查,該專案仍按計畫推進,預計 2026 年下半年進入量產,並對聯發科 2027 年 ABF 載板供應轉趨樂觀,維持聯發科「優於大盤」評級。
最後是針對三星 HBM 問題,大摩表示,三星未來 HBM 基礎晶片(base die)也將轉為台積電 3 奈米,因為 HBM4e / HBM5 的基礎晶片需要高度客製化與 IP 支援,而台積電 3 奈米將在 2028 年成為全球 HBM 基礎晶片的重要製程。目前台積電也將 4/5 奈米產能轉換至 3 奈米,主要位於 Fab 18 第三期產線。
(首圖來源:台積電)






