華為 5 奈米今年難實現商業化!外媒曝「兩大阻礙」卡脖子

作者 | 發布日期 2025 年 06 月 16 日 13:08 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 晶片 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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華為 5 奈米今年難實現商業化!外媒曝「兩大阻礙」卡脖子

華為 Pura 80 系列正式登場,並搭載 7 奈米製程的麒麟 9020,但根據最新爆料,雖然有消息傳中芯國際已成功開發出 5 奈米製程,但今年仍不會實現商業化,也不會有相關產品推出。

根據華為中心(Huawei Central)報導,微博一位名為「智慧晶片顧問」(@SmartChipConsultant)透露,5 奈米晶片正在研發中,但 2025 年不會投入商用,也不會有旗艦機搭載該晶片,真正上市可能要等到 2026 年。此外,該爆料者也稱,今年華為等中國企業所能使用的最先進曝光技術,仍是用於麒麟 9020 的「N+2」。

外媒 WCCFtech 報導稱,5 奈米製程晶片無法實現商業化,是因為中芯國際使用傳統深紫外光(DUV)設備。由於美國禁售荷蘭 ASML 極紫外光(EUV)曝光機給中國企業,導致中國在量產 5 奈米晶圓時面臨重重難關,包括低良率與生產成本提高等問題。

在目前 DUV 設備下,雖可透過「多重曝光」(multi-patterning)技術實現 5 奈米製程,代價是更高的光罩數量、更複雜的製程與更高的缺陷率。先前有消息傳出,中國自研 EUV 設備最快 2025 年第三季進入試產,如果順利的話,華為與中芯國際等將可能不再仰賴海外設備。

此外,美國已終止對中國出口 EDA(電子設計自動化)工具,而這些軟體對於晶片設計至關重要。華為在麒麟9020 的開發中能保持領先,據傳是因為其已自研出對應 14nm 製程的 EDA 工具。至於未來的 5 奈米晶片能否繼續沿用這些工具,或需從頭打造新解決方案,目前仍不得而知。

(首圖來源:科技新報)

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