綜合外電報導,英特爾與軟銀旗下子公司 SAIMEMORY 近日公開新一代記憶體技術 Z-Angle Memory(ZAM),並同步揭露部分架構與效能設計細節。相關內容已於 2 月 3 日舉行的 Intel Connection Japan 2026 活動中首度對外說明。
本次發表重點聚焦於 ZAM 記憶體架構。相較傳統 DRAM 多採用平面堆疊設計,且在功耗與散熱限制下使堆疊層數逐步逼近極限(目前約 16 層、預估上限約 20 層),ZAM 改以 Z 軸方向垂直排列晶粒(die) 的方式進行封裝。
透過垂直導熱路徑,各層晶粒產生的熱量可更均勻向上傳導,被視為有望緩解高頻寬記憶體長期面臨的散熱瓶頸。
根據外電報導,該架構有望同時實現更低功耗、更大容量與更高頻寬,其中可能包括功耗可降低約 40% 至 50%、透過 Z-Angle 互連簡化製造流程,以及單顆晶片容量最高可達 512GB 等潛在提升,展現與高頻寬記憶體(HBM)市場競爭的企圖。
SAIMEMORY CEO 山口秀哉表示,AI 正帶來可能超越歷次產業革命的結構性變革,公司期望在此關鍵時期提供核心記憶體解決方案。
隨著英特爾展示 ZAM 原型並釋出初步技術路線,顯示該專案正由研究階段邁向實際產品化進程。若技術順利落地,未來高頻寬記憶體市場的競爭格局,可能因此出現新的變數。
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(首圖來源:SoftBank)






