需求增 JX 金屬傳倍增韓國濺鍍靶材加工產能

因應需求增加，日本半導體材料商 JX 金屬（JX Advanced Metals Corporation）傳出將對韓國據點投資 40 億日圓，倍增半導體用金屬薄膜材料「濺鍍靶材」（Sputtering Targets）加工產能。

日經新聞22日報導，JX金屬將對韓國半導體材料據點投資40億日圓，在2027年度內將濺鍍靶材加工產能提高至現行的約2倍。韓國三星電子、SK海力士（SK Hynix）在6月宣布將投資800兆韓圜（約88兆日圓），因此JX金屬擬藉由倍增韓國加工產能，搶攻擴大的需求。

JX金屬的濺鍍靶材全球市占率達6成。JX金屬是將日本生產的濺鍍靶材運往韓國當地進行加工。JX金屬此次計劃在位於平澤市的現有工廠內導入自動加工產線，提高濺鍍靶材加工產能。

根據Yahoo Finance的報價顯示，截至台北時間23日上午9點10分為止，JX金屬大漲3.69%至3,910日圓，今年迄今JX金屬股價累計飆漲約99%。

（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：JX金屬）

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