Tag Archives: 光學技術

半導體產業爭霸賽誰能勝出?關鍵仍在光學技術

作者 |發布日期 2020 年 02 月 05 日 8:45 | 分類 光電科技 , 材料、設備 , 零組件

荷蘭政府近日根據瓦森納國際協議(Wassenaar Arrangement),禁止 ASML 公司向中國出口極紫外光刻機(Extreme Ultraviolet,EUV Lithography);中國駐荷蘭大使反嗆要以中荷關係為要脅,要求荷蘭政府取消禁令。光刻設備是半導體製程中最重要的設備,全球又僅有 ASML 能提供最高階的光刻設備,美國要求荷蘭政府禁止 ASML 向中國輸出這設備,可說是掐住中國半導體產業的咽喉。半導體產業爭霸賽的關鍵,無疑就是光刻設備需要仰賴的「光學技術」。

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Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾

作者 |發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 | 分類 光電科技 , 晶片 , 會員專區

根據 《路透社》 的報導,日本光學大廠尼康(Nikon) 於 24 日表示,已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML Holding NV)和合作夥伴卡爾蔡司(Carl Zeiss AG)提起法律訴訟,並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影(lithography)技術專利用於光刻機上,並運用在半導體製造業中。

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3M 光學顯示技術四大亮點,展現智慧顯示全方位解決方案

作者 |發布日期 2016 年 08 月 24 日 17:15 | 分類 市場動態 , 會員專區 , 零組件

隨家庭娛樂、物聯網與遊戲產業持續蓬勃發展,全球顯示器、面板產業也因此開創多元應用情境與智慧顯示需求。美商 3M 台灣透過四大亮點光學技術,在產業界重要盛會 Touch Taiwan 智慧顯示與觸控展覽,展現光學與顯示材料上的創新科技實力,力助台灣面板廠拓展全球顯示器市場。

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