Tag Archives: 晶圓清洗

高純度 CO₂ 韓國庫存水位降至一個月以下，三星、SK 海力士承壓
作者 |發布日期 2026 年 07 月 02 日 10:20 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 晶圓

韓國半導體供應鏈再現瓶頸，先進晶圓清洗用的高純度二氧化碳（CO₂）供給明顯吃緊。業界消息指出，目前整體庫存跌破一個月安全水位；正常狀況晶圓廠與氣體供應商各自約會保持兩週庫存，合計約一個月，但如今緩衝明顯縮水。 繼續閱讀..

盛美半導體單片晶圓高溫 SPM 設備，可應對 28 奈米以下濕蝕刻、清洗製程
作者 |發布日期 2025 年 04 月 15 日 17:23 |
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分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件

盛美半導體今（15 日）宣布，其單片晶圓高溫硫酸過氧化混合物（SPM）設備已成功通過一家邏輯晶片製造商的驗證。截止目前，該設備已被 13 家客戶訂購，並能應對 28 奈米及以下節點前段與後段制程中晶圓所需的多種濕蝕刻與清洗製程。 繼續閱讀..