外媒報導，美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室（Lawrence Livermore National Laboratory，LLNL）正在研發銩元素的拍瓦（petawatt）級雷射，有望取代極紫外光曝光（EUV）二氧化碳雷射，並將光源效率提升約十倍，可能為超越 EUV 微影曝光設備開啟新局，以更快速度和更低能耗製造晶片。
銩雷射取代 EUV 二氧化碳雷射，節能高效率生產晶片 |
作者
Atkinson|發布日期
2025 年 01 月 06 日 9:00 |
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