Tag Archives: CMP

中國擴大稀土出口管制,對台積電短期影響不大、長期風險仍待觀察

作者 |發布日期 2025 年 10 月 27 日 13:15 | 分類 AI 人工智慧 , 半導體

中國於 2025 年 10 月宣布擴大稀土出口管制清單,新增銪、鈥、鉺、銩、鐿等中重稀土元素,並將部分加工設備與含中資成分的相關產品納入管制範圍。此舉被視為針對全球高階製造鏈、特別是半導體與新能源產業的戰略性措施。隨著限制升級,市場焦點迅速轉向晶圓代工龍頭台積電,外界關注此政策是否會衝擊其先進製程。 繼續閱讀..

保障玩家權利還是搶挖礦生意?輝達推挖礦專用 CMP 產品

作者 |發布日期 2021 年 02 月 19 日 10:30 | 分類 GPU , IC 設計 , 數位貨幣

就在當前彼特比價格已經大漲超過 5 萬美元的情況下,為避免顯示卡都被挖礦客戶拿去挖礦,造成市場嚴重缺貨的的狀態重演,日前繪圖晶片大廠輝達(NVIDIA)正式宣布,將限制 GeForce RTX 3060 GPU 的挖礦算力,以降低其對加密貨幣從業者的吸引力,同時進一步推出 NVIDIA CMP 用於專業加密貨幣挖礦。這輝達史上頭一次的作法,也有機會讓輝達能從兩邊各自獲利。

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陶氏電子材料台灣廠榮獲 Frost & Sullivan 製造領袖獎

作者 |發布日期 2015 年 06 月 10 日 15:00 | 分類 市場動態 , 零組件

陶氏化學公司旗下的陶氏電子材料 10 日宣布,陶氏台灣竹南廠於 2015 年 6 月 4 日於美國加州 Carlsbad 所舉行的頒獎典禮中,榮獲研究機構 Frost & Sullivan 旗下的製造領袖委員會頒發「製造領袖獎」(Manufacturing Leadership Awards)。榮獲「年度製造領袖」的陶氏化學今年共獲頒四項「製造領袖獎」,其中陶氏竹南廠獲頒的是「卓越營運」(Operational Excellence Leadership)獎項,得獎原因是該廠制定並執行六標準差及精實生產(Six Sigma and Lean)策略持續提升顧客服務、營運卓越度與員工發展,進而推動半導體產業化學機械研磨(Chemical Mechanical Planarization, CMP)技術的進步。 繼續閱讀..