挑戰 ASML，日本半導體設備大廠 Canon 宣布開賣採用「奈米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）」技術的微影設備，可用來生產 5 奈米（nm）晶片，且經過改良，將可進一步用來生產 2nm 晶片。
挑戰 ASML？Canon 開賣 NIL 微影設備，可生產 2 奈米晶片 |
作者
MoneyDJ|發布日期
2023 年 10 月 16 日 9:02 |
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