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Rapidus 北海道廠分四階段安裝 EUV 曝光機,拚 2027 年量產

作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 10:33 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

日本半導體新創 Rapidus 成為日本首間獲得極紫外線(EUV)曝光設備的公司,目前已開始在北海道千歲市在建晶圓廠安裝設備。該公司執行長小池淳義(Atsuyoshi Koike)18 日在新千歲機場舉行的典禮上表示,將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。 繼續閱讀..