Mentor EDA 工具獲台積電類比/混合 IC 製程認證

作者 | 發布日期 2019 年 10 月 14 日 17:25 | 分類 晶片 Telegram share ! follow us in feedly


EDA 工具是半導體製程相當重要的工具,其中西門子旗下 Mentor 能夠跨越數位以及類比 IC,比起同業具備優勢。Mentor 今日宣布,其 Tanner 類比/混合訊號(AMS)設計工具──Tanner S-Edit 原理圖擷取工具,和 Tanner L-Edit 佈局編輯器──已通過台積電的互通性 PDK(iPDK)認證,可適用於台積電為大量類比 IC 設計提供的各種特殊製程技術。

台積電的特殊製程技術 iPDK 可協助晶片製造商滿足領先 AMS IC 設計的特定要求。Mentor AMS 工具現已通過台積電的多項 iPDK 認證,包括 22 奈米超低功耗、28 奈米高效能運算、40 奈米混合訊號技術,以及適用於現今最先進類比 IC 的其他特殊製程技術。

台積電設計建構行銷處資深處長 Suk Lee 表示:「我們與 Mentor 的持續合作,可確保我們的共同客戶能獲得所需的 EDA 解決方案和服務,以支援他們在特殊節點上成功完成晶片設計和製造。這項共同努力把台積電的特殊製程技術與 Mentor 的先進設計工具結合在一起,使我們的客戶能在汽車、智慧穿戴裝置和工業物聯網等廣泛市場中實現創新成功。」

「全球許多成長最快的市場越來越需要專用的混合訊號 AMS晶片,以用來無縫連接類比和數位世界。Mentor 的 Tanner 工具經過專門設計,以滿足 IC 設計人員日益成長的需求,並為需要高度創新的混合訊號 AMS IC 提供一個理想的設計平台」Mentor 晶片設計系統總經理 Greg Lebsack 表示。「Tanner AMS 工具現已通過台積電支援類比 IC 設計的特殊製程認證,這對我們的客戶來說是個大好消息,因為它可以加速上市時程並把風險降至最低。Mentor 的 Tanner AMS 解決方案和台積電的類比 IC 特殊製程是協助我們共同客戶致勝市場的絕佳組合。」

(首圖來源:Mentor

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