東芝傳生產 NIL 技術 NAND Flash,成本降 1 成

作者 | 發布日期 2016 年 06 月 03 日 8:50 | 分類 手機 , 晶片 , 會員專區 Telegram share ! follow us in feedly


日經新聞 3 日報導,全球第 2 大 NAND 型快閃記憶體(Flash Memory)廠商東芝(Toshiba)將在 2017 年度採用被稱為「奈米壓印(Nano-imprint Lithography,NIL)」的新技術,生產使用於智慧手機等產品的 NAND Flash,藉此可讓曝光工程(形成回路的工程)成本壓低至採用現行技術的三分之一水準,就整體製造工程來看,預估成本有望刪減約 1 成。

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