戰鬥民族放大絕!俄羅斯 2028 年要量產 7 奈米製程微影曝光設備 作者 Atkinson | 發布日期 2022 年 10 月 24 日 7:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit See Translation Now Translating... Tomshardware 報導,一家俄羅斯研究單位正在研究開發半導體微影曝光設備,預計可生產 7 奈米製程晶片。計畫 2028 年完成,可能比 ASML Twinscan NXT:2000i 效能更高。而 ASML 開發 Twinscan NXT:2000i 花了超過 10 年。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: 俄羅斯 , 半導體設備 , 微影曝光設備 , 應材 , 艾司摩爾