ASML：並未推出中國市場特別版曝光機

IT 之家報導，證券時報指有媒體說 ASML 試圖規避荷蘭新銷售許可禁令，推出中國市場特別版 DUV 之事，ASML 6 日回應一直遵守法律條例，並沒有推出中國市場特別版曝光機。

之前報導ASML試圖規避荷蘭新銷售許可禁令，推出中國市場特別版DUV；如專案繼續進行，中芯國際、華虹等中國半導體企業可繼續使用荷蘭設備生產28奈米及更成熟製程晶片。

荷蘭近日宣布最新決定，要求企業出口先進設備前需要獲得許可證，新規將在9月1日生效。荷蘭新規頒布後，ASML表示據新出口管制條例規定，需向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進浸潤式DUV系統（TWINSCANNXT:2000i及後續浸潤式光刻系統）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，並向ASML提供許可證所附條件的細節。

ASML聲明指出，荷蘭政府新出口管制條例只涉及TWINSCANNXT:2000i及後續推出的浸潤式光刻系統（DUV，深紫外曝光）；EUV曝光（極紫外曝光）系統之前已受限制，其他系統發運暫未受荷蘭政府管控。

（本文由 MoneyDJ新聞授權轉載；首圖來源：科技新報）