成本僅 ASML 小部分！Canon 最新 NIL 微影設備，能翻轉晶圓製造生態嗎？ 作者 林 妤柔 | 發布日期 2023 年 11 月 07 日 14:04 | 分類 半導體 , 技術分析 , 晶圓 | edit 日本半導體設備大廠 Canon 推出「奈米壓印」（NIL）技術的微影設備，可用於製造 5 奈米晶片，挑戰半導體設備龍頭 ASML。 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知，時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: Canon , NIL 技術 , 先進製程 , 出口限制 , 奈米壓印 , 曝光機
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