日本政府傳出計劃對官民合作設立的晶圓代工廠 Rapidus 出資 1,000 億日圓,而 Rapidus 利用這筆資金追加採購生產先進晶片必需的極紫外光(EUV)微影設備。
共同通信25日報導,日本政府已敲定方針,2025年下半出資Rapidus 1,000億日圓。Rapidus將從現有股東、新股東籌措約1,000億日圓資金,日本政府出資額規模與民間資金一樣,Rapidus將用資金追加採購EUV微影設備。
日本經濟產業省25日專家會議出示補助Rapidus等半導體產業的修正法案概要,目標2025年初例行國會提交修正法案,可讓經濟產業省轄下「獨立行政法人情報處理推進機構」(IPA)進行投資企業、提供貸款擔保等援助。
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