宣稱 2 奈米製程技術良率突破,三星再提超越台積電目標

作者 | 發布日期 2025 年 10 月 22 日 8:50 | 分類 Samsung , 半導體 , 晶圓 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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宣稱 2 奈米製程技術良率突破,三星再提超越台積電目標

韓國三星近日在先進半導體技術領域方面展現出強勁的信心,該公司高層對其 2 奈米 GAA(Gate-All-Around)製程的發展進度表達高度樂觀。競爭對手 SK 海力士(SK hynix)企業總裁 Song Hyun-jong 也強調,這項製造技術將成為一個「關鍵的轉捩點」。目前,2 奈米 GAA 製程技術的晶圓量產已於 9 月下旬啟動,首款採用此技術的晶片為即將問世的三星自研 SoC-Exynos 2600。

根據朝鮮日報報導,在總統辦公室政策首席 Kim Yong-beom 主持的一場關於半導體產業議題的會議中,三星設備解決方案部門總裁兼技術長 Song Jae-hyuk 對2 奈米 GAA 製程給予極多正面的評價。相較於前幾年,三星晶圓代工業務表現不佳,使台積電攻占了市場大部分比率情況,目前看來三星終於有所轉變。報告指出,三星已將其 2 奈米 GAA 的良率目標,從原訂的 50% 大幅提高至 70%,並且預計在 2025 年底達成。

報導引用一位接近知情的人士說法表示,這些在高層會議上發表的言論可以被解讀為:三星正順利實現其規劃的 2 奈米製程良率和晶片性能目標。Song Jae-hyuk 在會議中暗示了其雄心壯志,希望藉由 2 奈米 GAA 節點的成功,最終能在全球晶圓代工市場上奪取第一名。不過,他也坦言,在追趕台積電以及應對特定技術與人力資源等挑戰時,公司需要政府提供龐大的支持。

另外,三星表示,為確保其在下一代節點中的競爭力,已付出了必要的努力。包括,三星已經完成了第二代 2 奈米 GAA 製程的基本設計。同時,代號為 SF2P+ 的第三代 2 奈米 GAA 製程,也預計在未來兩年內完成開發。

至於,三星首款採用 2 奈米 GAA 技術的晶片將是三星自研的 SoC-Exynos 2600。初步的內部測試結果顯示,Exynos 2600 的性能表現非凡。它在多項測試中輕鬆擊敗了競爭對手蘋果的 A19 Pro,以及高通的 Snapdragon 8 Elite Gen 5。更值得注意的是,測試數據揭示其 AI 性能比 A19 Pro 和 Snapdragon 8 Elite Gen 5 高出六倍。不過,雖然商業化產品的實際結果可能有所不同,但業界普遍期望三星的 2 奈米 GAA 技術能夠帶來實質性的效益。

(首圖來源:三星)

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