D1d 製程良率卡關!三星恐無限期延後 HBM5E 量產時間

作者 | 發布日期 2026 年 04 月 22 日 15:35 | 分類 Samsung , 晶片 , 記憶體 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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D1d 製程良率卡關!三星恐無限期延後 HBM5E 量產時間

市場消息傳出,三星電子 1d DRAM(第七代 10 奈米級製程)良率未達內部目標,恐將無限期延後用於下一代 HBM 記憶體的量產計畫。

據韓媒 IT Chosun 報導,三星在獲得試產前批准(PRA)後,於今年第一季開始進行 10 奈米製程 1d DRAM (簡稱 D1d)試產,但因良率不如預期,三星可能暫停推進量產下一代 HBM

三星內部人士透露,計劃在 D1d 良率達標前,無限期延後量產,目前尚未確定恢復時間,「他們正專注於全面檢視製程路線圖,以進一步提升良率」。另一方面,三星高層也對 D1d 晶片的良率和投資回報進行評估,最終確認目前不適合量產,也不強行推進生產線運作。

D1d DRAM 技術將未來 HBM 藍圖扮演關鍵角色,預計應用於三星第九代 HBM 產品 HBM5E

目前 1c DRAM 已應用於三個世代的 HBM 產品,包括 HBM4HBM4E HBM5,但從 HBM5E 開始,穩定的 D1d 供應至關重要。其中,HBM4 預計今年稍晚時推出,並搭載於 NVIDIA Vera Rubin AMD MI400 平台;HBM4E 則預期應用於 Rubin Ultra MI500 加速器。至於 HBM5 及客製化設計,則可能導入 NVIDIA Feynman 系列及其他競品方案。

報導指出,由於量產計畫落空,為該計畫特派的約 400 名人員組成的 D1d 量產工作小組實際已處於閒置狀態。但由於尚未獲得產品驗收批准,關鍵工程師目前僅在研發階段進行資訊交流。

與此同時,三星也加大投資,在韓國溫陽(Onyang)建設一座大型晶圓廠,規模相當於四個足球場,將用於生產包括 HBM 在內的下一代 DRAM 產品。該設施將負責封裝、測試、物流與品質控制等關鍵環節,以支撐穩定量產。

隨著開發加速與產能擴張,三星也將與 SK 海力士展開更激烈競爭,後者已在 D1d DRAM 技術上取得良率突破。

(首圖來源:三星

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