因應需求增加,三菱化學(Mitsubishi Chemical)、日本製鋼所(The Japan Steel Works,JSW)傳計劃將氮化鎵(GaN)產能擴增 5 成。
日經新聞7日報導,三菱化學、JSW將擴增使用於次世代功率半導體基板的GaN產能,目標在2027年將產能擴增5成(和2026年相比),開拓來自電動車(EV)、資料中心電源的需求。
三菱化學、JSW正攜手研發功率半導體用GaN基板。和傳統材料「矽」相比,GaN能承受更高的電壓,而和碳化矽(SiC)相比,GaN具備高速控制電流、抑制電力損耗等特性。
報導指出,三菱化學、JSW已在今年4月將基板、晶種(Seed Crystal)產能提高至2021年度的2倍,之後計劃在2027年4月進一步擴增至2021年度的3倍(即和2026年相比增加5成)。
據報導,使用GaN的高性能功率半導體,預估今後來自EV快速充電器、逆變器以及資料中心電源的需求將擴大,目前三菱化學/JSW 4吋基板仍處於客戶驗證階段,不過需求增加,因此決定進一步擴增產能,且目標在2026年度開始提供6吋、2028年度提供8吋基板樣品。






