面對美國新一波出口管制，中國：控訴、爆買！

外媒報導，日本和荷蘭原則上同意美國，共同加強限制出口中國先進晶片製造設備，主要限制 16 奈米製程沉浸式深紫外光微影曝光設備 (DUV)，可廣泛用於 40 奈米成熟製程到 5 奈米先進製程，對中國半導體產業生產與發展影響甚大。中國除了向世界貿易組織告狀，消息指出中國廠商開始向各大設備商擴大採購，多少延長受衝擊時間。