
台積電(TSMC)近日上傳一支罕見飛行影片,展示美國亞利桑那州 Fab 21 工廠運作,讓外界一窺 N4 / N5 製程。可看到數百台高科技設備製造晶片,特別是 ASML 極紫外光(EUV)曝光機,負責生產輝達(Nvidia)Blackwell B300 處理器等複雜電路。
影片開頭展示「銀色高速公路」,指台積電自動化物料處理系統(AMHS),由懸空軌道組成,運輸裝有300mm(12吋)晶圓的前開式晶圓傳送盒(Front Opening Unified Pod,FOUP)。這些FOUP在工廠流動展示高產量製造環境維持生產週期的關鍵物流。
I like how $TSM posted a video about its new Arizona Fab, where they explain how chips are made using EUV equipment from $ASML, and they even include small clips provided by $ASML.
“to be able to do this is incredibly difficult. We are using extreme ultraviolet technologies… pic.twitter.com/0iUqR13Z8J
— Bourbon Capital (@BourbonCap) September 7, 2025
ASML EUV(Twinscan NXE:3600D)描繪成在晶圓上「印刷」圖案,光源是由二氧化碳雷射激發錫靶產生的等離子體,產生13.5nm波長光,能單次曝光做到約13nm半間距解析度,顯示EUV先進程度。
影片強調EUV面臨的挑戰,包括幾奈米內重疊精度(NXE:3600D為1.1nm)和隨機效應等問題。儘管未拍到晶圓階段和光罩,但關鍵組件在Fab 21的EUV設備無疑也在。
台積電Fab 21第一階段為蘋果、AMD和輝達等生產晶片,並計劃建造Fab 21第二階段,生產N3和N2系列晶片。台積電執行長魏哲家最近暗示,升級計畫將加速,以應付客戶AI需求的強勁增長。
(首圖來源:台積電)