盼增 EUV 雷射精確度、美政府注資季辛格的 xLight

作者 | 發布日期 2025 年 12 月 02 日 13:50 | 分類 半導體 , 晶片 , 財經 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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盼增 EUV 雷射精確度、美政府注資季辛格的 xLight

市場謠傳,川普政府將對嘗試提升極紫外光(EUV)微影技術的晶片雷射新創商 xLight 挹注 1.5 億美元資金,期盼透過政府補貼支持本土的戰略產業。

華爾街日報、路透社報導,美國商務部1日表示,政府注資1.5億美元後將換取xLight股權。此舉可能讓美國政府成為xLight最大股東。

荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding N.V.)目前是全球唯一一家EUV微影設備製造商,每台設備成本可能高達數億美元。

XLight僅希望改善EUV製程的一項關鍵零件:將複雜微影像蝕刻到矽晶圓(經化學處理)的雷射光源。XLight希望能將其雷射光源整合到ASML機台。

值得注意的是,英特爾(Intel Corp.)前執行長季辛格(Pat Gelsinger)目前擔任xLight的執行董事。季辛格1日受訪時表示,「我的行動還未結束。這對我來說深具個人意義」。

xLight使用的是2022年《晶片與科學法案》(Chips and Science Act)的資金,這筆資金是專為具技術前景的新創企業配置的。

ASML目前使用的最先進雷射,產生的極紫外光波長約為13.5奈米。XLight希望產出更為精確的雷射波長,最低可至2奈米。這樣的精確度,能幫助晶片商在矽晶圓刻蝕出更微小的線路。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:科技新報)

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