三星出招研發「量子電腦＋AI」微影技術，拚先進製程彎道超車

韓國三星正開發結合量子電腦與人工智慧的微影（photolithography）模擬技術，目標在縮短微影與蝕刻流程所需時間與成本，並提升晶片密度與良率。據韓國媒體《首爾經濟日報》（Seoul Economic Daily）報導，該技術以量子電腦執行微影流程模擬，並再由 AI 偵測與修正模擬與實際製程間的誤差，加速最佳化流程。

在半導體製造中，微影是最重要的步驟之一，需仰賴像荷蘭 ASML 所製的高階曝光機，用紫外光將電路藍圖轉印到晶圓上。鑑於先進製程對精度的要求持續提升，微影往往決定整個製程的成敗，因此三星才以量子模擬輔以 AI 來改善密度與良率。

消息指出，負責數位業務的三星 SDS 主導相關技術開發，公司已取得演算法，並計劃在 2027 年透過概念驗證（proof of concept）確認可行性；若模擬軟體驗證成功，預期會與三星電子相關單位分享應用。

業界方面，AI 已被其他晶圓代工廠採用於製程開發，例如台灣廠商在某些節點上採用 NVIDIA 等 AI 工具來協助開發。若三星的「量子＋AI」模擬技術可行，將有助於縮短開發週期、降低成本並提升良率。