Author Archives: 林 妤柔

使用不同於矽的二維材料,MIT 科學家成功培育高層 3D 晶片

作者 |發布日期 2024 年 12 月 23 日 15:33 | 分類 半導體 , 晶圓

電子業在電腦晶片表面可容納的電晶體數量已接近極限,晶片製造商正探索向上發展的新方向。與其將越來越小的電晶體擠在單一表面上,業界目標是堆疊多層的電晶體與半導體元件,如同將平房變成高樓大廈。這種多層晶片可處理比現今電子產品多出數倍的資料,執行許多更複雜的功能。 繼續閱讀..

專利戰高通首勝、陪審團留伏筆:一文快速了解高通、Arm 愛恨情仇

作者 |發布日期 2024 年 12 月 23 日 11:49 | 分類 AI 人工智慧 , IC 設計 , 半導體

美國德拉瓦州陪審團 20 日裁定,高通在與 Arm 的技術授權協議中具備合法授權,在沒有支付更高許可費的情況下,收購新創 Nuvia 並將其技術融入晶片中,並未違反與 Arm 之間關於晶片設計許可的協議條款。然而,訴訟並未完全解決所有爭議,Arm 表示將尋求重新審理。 繼續閱讀..

東京威力科創目標 AI 晶片設備明年占比四成,彌補中國市場放緩

作者 |發布日期 2024 年 12 月 20 日 18:25 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

日本晶片製造設備大廠東京威力科創(TEL)預期在下一財年提升人工智慧(AI)相關業務的銷售額,以彌補中國市場業務放緩。東京威力科創財務部長、資深副總裁 Hiroshi Kawamoto 接受日經採訪時表示,公司目標是下一財年(截至 2026 年 3 月),讓 AI 在晶圓廠設備(WFE)銷量比例占達「約 40%」。 繼續閱讀..

俄國計劃自研 EUV 設備,比 ASML 系統更便宜、容易製造

作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 17:54 | 分類 半導體 , 材料、設備

綜合外媒 CNews、Tom′s Hardware 報導,俄羅斯已公布自主開發曝光機的路線圖,目標是打造比 ASML 系統更經濟且更複雜的設備。這些曝光機將採用波長為 11.2 奈米的雷射光源,而非 ASML 使用的標準 13.5 奈米波長。因此,新技術無法與現有 EUV 基礎設施相容,需要俄羅斯自行開發配套的曝光生態系統,可能需要數年甚至十年以上時間。 繼續閱讀..

Rapidus 北海道廠分四階段安裝 EUV 曝光機,拚 2027 年量產

作者 |發布日期 2024 年 12 月 19 日 10:33 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

日本半導體新創 Rapidus 成為日本首間獲得極紫外線(EUV)曝光設備的公司,目前已開始在北海道千歲市在建晶圓廠安裝設備。該公司執行長小池淳義(Atsuyoshi Koike)18 日在新千歲機場舉行的典禮上表示,將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。 繼續閱讀..

避免美日材料大廠卡脖子,中國推動國產光阻供應鏈

作者 |發布日期 2024 年 12 月 18 日 18:04 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

隨著中國半導體產業邁向自給自足,不僅要開發精密的晶片製造工具,還要開發高純度光阻劑,這對製造先進晶片相當重要。根據研調機構,中國今年在光阻發展有顯著進步,主要受政府支持,以及當地晶片製造商需求增加。 繼續閱讀..

黃仁勳從烤箱端新品!推親民價 AI 超級電腦,售價 249 美元

作者 |發布日期 2024 年 12 月 18 日 14:14 | 分類 AI 人工智慧 , 晶片 , 處理器

NVIDIA 執行長黃仁勳在行銷產品可說是創意滿分,過去曾在廚房中戴起隔熱手套,打開烤箱拿出一個烤盤大的顯示卡,今年他又從烤箱中拿出新產品,體積小巧的新款生成式 AI 超級電腦。黃仁勳還笑稱說可能烤太久了,所以外型縮小,這款產品叫做「Jetson Orin Nano Super」。 繼續閱讀..