Tag Archives: 光刻機

Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾

作者 |發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 | 分類 光電科技 , 晶片 , 會員專區

根據 《路透社》 的報導,日本光學大廠尼康(Nikon) 於 24 日表示,已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML Holding NV)和合作夥伴卡爾蔡司(Carl Zeiss AG)提起法律訴訟,並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影(lithography)技術專利用於光刻機上,並運用在半導體製造業中。

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艾司摩爾在中國的銷售狀況是否能預測產業狀況?

作者 |發布日期 2015 年 03 月 05 日 16:18 | 分類 中國觀察 , 晶片 , 會員專區

艾司摩爾 (ASML) 是荷蘭的半導體設備生產商,生產的光刻機在半導體製程扮演重要角色,市佔為第一名,遠遠超過日本的 Canon 和 Nikon。但在中國的營業數據很有趣,前一季還有 7% 銷售比率,但過了一季比率太小沒顯示在圓餅圖中,是否意味中國半導體產業有不好的事情發生?

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