Tag Archives: 光刻機

Nikon、Canon 日系光刻機為何被後起之秀 ASML 超越?

作者 |發布日期 2020 年 10 月 22 日 8:00 | 分類 材料、設備 , 零組件

當今世界光刻機三大製造商是:日本 Nikon、Canon 和荷蘭 ASML,日本 Nikon 和 Canon 都是知名百年老牌照相機製造商,ASML 則是 1984 才成立的合資公司,但如今 ASML 光刻機(曝光機)享譽全球,聲勢更超越 Nikon。ASML 後發制人卻能邁向成功,這是怎麼做到的?《科技新報》取得「若葉 ヒロユキ」授權轉載,以下為他的見解。

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中國國產晶片技術升級恐遇阻,弘芯 7 奈米光刻機被抵押

作者 |發布日期 2020 年 09 月 01 日 14:15 | 分類 中國觀察 , 國際貿易 , 晶片

香港經濟日報報導,中美科技戰白熱化,中國政府致力扶植國產晶片企業崛起,期望實現晶片產業自力更新。但在此關鍵時刻,號稱投資逾千億人民幣的晶片項目武漢弘芯因項目有較大資金缺口,隨時面臨資金鏈斷裂導致項目停滯風險;從荷蘭購入、目前是中國國內唯一一部 7 奈米晶片光刻機,還未使用已遭抵押。 繼續閱讀..

一次搞懂瓦聖納協議,為何 ASML 出口中國需要荷蘭政府許可

作者 |發布日期 2019 年 11 月 07 日 15:20 | 分類 中國觀察 , 國際貿易 , 材料、設備

針對日媒報導,因為受到美國政府關切,全球最大半導體光刻設備供應商艾司摩爾(ASML)延後對中國晶圓代工企業中芯國際出貨一事,ASML 官方聲明,因為根據國際協定,出口前往中國的光刻設備必須有出口許可,目前舊許可到期的情況下,目前正在等待荷蘭政府重新審核出口許可,相關出口到中國的光刻機設備是「暫停出貨」, 並非媒體臆測的「延遲出貨」。

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ASML 延後中國企業訂單出貨,光刻設備恐淪為貿易戰武器

作者 |發布日期 2019 年 11 月 07 日 9:00 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

美中貿易戰的狀況,原本市場人士都預料將會有所和緩。不料,在日前傳出美國政府關切晶圓代工龍頭台積電供貨給中國華為,並希望限制供應的消息之後。雖然,整件事情遭到台積電官方的否認,但是相關事件仍持續發酵中。根據 《日經亞洲評論》 引用知情人士的消息報導指出,目前美國政府相關關切對中國企業供貨的態度,焦點也轉到了全球最大半導體光刻機供應商艾司摩爾 (ASML) 的身上,也就是 2018 年 4 月份,中國最大晶圓代工商中芯國際向 ASML 訂購的光刻機設備,目前正等待美國政府的批准,暫時延後出貨中。

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中國企業間諜案再一樁,ASML 遭中國籍員工竊取資料給中國公司

作者 |發布日期 2019 年 04 月 11 日 16:20 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 材料、設備

據《路透社》報導,荷蘭媒體《Financieele Dagblad》最新報導,全球最重要的半導體設備廠之一艾司摩爾(ASML)美國子公司研發部門工作的中國籍員工,涉嫌竊取商業機密,並洩漏給中國相關企業。不過根據 ASML 的內部調查,現階段並沒有證據證明中國政府有參與此案。ASML 目前正準備資料,之後會對此回應。

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中國半導體正迎接先進光刻時代到來,中芯、長江存儲、華虹先後引進

作者 |發布日期 2018 年 05 月 22 日 9:15 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 會員專區

近期,中國半導體廠開始積極迎接先進的光刻機時代到來。就在日前,中國最大晶圓代工廠中芯國際斥資 1.2 億美元,自荷商艾司摩爾(ASML)買來中國首台極紫外線光刻機的消息曝光之後,以生產 NAND Flash 為主的長江存儲,也在日前傳出,同樣向艾司摩爾採購價值 7,200 萬美元的 193 奈米沉浸式光刻機,用於 20~14 奈米的 3D NAND Flash 生產,也同樣運抵武漢。最新的是,華虹集團旗下的上海華力集成電路,也迎接了他們的首台 193 奈米雙沉浸式的光刻機,以用於先進製程的晶圓製造生產。

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三星計畫 2020 年推出 4 奈米製程,屆時與台積電 5 奈米製程競爭

作者 |發布日期 2017 年 05 月 25 日 10:30 | 分類 Samsung , 晶片 , 會員專區

根據國外科技媒體《ExtremeTech》的報導,日前積極宣布準備拆分晶圓製造事業,並期望能在市場上一舉超越台積電的南韓三星,24 日舉辦了記者說明會,現場公佈了旗下最新的製程技術路線圖。根據規劃,在新的路線圖中,三星希望能在 2020 年推出 4 奈米製程技術,與屆時將推出 5 奈米製程的台積電一較高下。

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Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾

作者 |發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 | 分類 光電科技 , 晶片 , 會員專區

根據 《路透社》 的報導,日本光學大廠尼康(Nikon) 於 24 日表示,已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML Holding NV)和合作夥伴卡爾蔡司(Carl Zeiss AG)提起法律訴訟,並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影(lithography)技術專利用於光刻機上,並運用在半導體製造業中。

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艾司摩爾在中國的銷售狀況是否能預測產業狀況?

作者 |發布日期 2015 年 03 月 05 日 16:18 | 分類 中國觀察 , 晶片 , 會員專區

艾司摩爾 (ASML) 是荷蘭的半導體設備生產商,生產的光刻機在半導體製程扮演重要角色,市佔為第一名,遠遠超過日本的 Canon 和 Nikon。但在中國的營業數據很有趣,前一季還有 7% 銷售比率,但過了一季比率太小沒顯示在圓餅圖中,是否意味中國半導體產業有不好的事情發生?

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