傳美國恐進一步限制 DUV 設備出口中國

作者 | 發布日期 2021 年 04 月 16 日 8:50 | 分類 國際貿易 , 材料、設備 , 零組件 Telegram share ! follow us in feedly


網易引述「EETOP 半導體社區」報導,據韓媒消息,面對中國積極發展半導體產業的態度,美國政府恐怕不僅將禁止極紫外光(EUV)光刻機的出口到中國,恐怕連浸潤式 ArF 深紫外光(DUV)曝光設備都將列入禁止出口中國品項。

據韓媒 BusinessKorea 報導指出,美國拜登政府為限制中國在半導體產業中的地位,日前由美國國家人工智慧安全委員會提出了一項政策,希望禁止向中國出口包括浸潤式 ArF 深紫外光(DUV)的光刻機等半導體製造設備。如果一旦這項計畫付諸施行,則目前在中國設有大型晶圓廠的三星與 SK 海力士等南韓記憶體大廠擔心,未來將可能受到進一步的衝擊。

據了解,針對全球性的晶片缺貨問題,美國拜登政府才剛在本週邀集美、歐半導體設備大廠、汽車製造廠商、台積電與南韓三星等重量級晶圓代工廠共同參加會議,以討論解決由美國所主導的半導體供應鏈失衡的情況。

報導指出,歐盟委員會曾表示,為限制中國半導體產業的地位,美國政府必須與荷蘭及日本政府合作,限制相關半導體設備出口到中國。由於前一任美國川普政府已阻止荷蘭商光刻機大廠 ASML 出口 EUV 光刻機到中國的計畫;一旦也限制浸潤式 ArF 深紫外光光刻機出口到中國,也代表美國禁止更多半導體設備出口到中國。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:shutterstock)

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