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挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程

作者 |發布日期 2021 年 02 月 15 日 0:00 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 零組件

2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議(IEDM)上,台積電公布的兩個報告標誌著積體電路製造邁入了 EUV 微影時代。第一個報告宣布了應用 EUV 微影技術的 7 奈米世代的改良版晶片已經於 2019 年正式量產,我們知道這個技術已經用在 2019 年生產的麒麟 990  5G 這顆有多於 100 億個電晶體的晶片上。

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