濾能半導體展秀 AMC 防治成果！下半年導入新濾淨設備挹注營運 作者 姚 惠茹|發布日期 2025 年 09 月 11 日 15:06 | 分類 半導體 , 國際觀察 , 材料、設備 | edit 全球半導體年度盛會 SEMICON Taiwan 2025 第二日，濾能今年參展呈現其獨步全球的「AMC 4.0：次世代微污染控制整合方案」，這是一套涵蓋從廠務端、設備端到製程端的完整解決方案，董事長黃銘文表示，濾能推 GFT-SPR 技術與 AMC 全方位解決方案，預計明年放量挹注營運成長。 繼續閱讀..
台灣 10 奈米以下市占近五成！濾能以每股 98.6 元掛牌上櫃 作者 姚 惠茹|發布日期 2022 年 06 月 30 日 10:38 | 分類 會員專區 , 材料、設備 , 證券 | edit 半導體先進製程懸浮氣態污染物（AMC）防治專業廠濾能今日以每股 98.6 元正式掛牌上櫃，目前在台灣 10 奈米以下先進製程的市占率近五成，但受到大盤力守「萬五」關卡影響，濾能盤中最高漲幅達 5.48％，股價一度到 104 元。 繼續閱讀..
半導體 AMC 防治廠濾能！6/10 以底價 85 元上櫃競拍 作者 姚 惠茹|發布日期 2022 年 06 月 09 日 14:54 | 分類 會員專區 , 材料、設備 , 證券 | edit 半導體先進製程防治氣態分子污染物（AMC）廠商濾能今日宣布，配合上櫃前公開承銷作業，辦理現金增資發行新股 2,278 張，其中 1,604 張採競價拍賣方式承銷，投標期間為 6 月 10 日至 6 月 14 日，這次競拍底價為 85 元，預計上櫃掛牌日為 6 月 30 日。 繼續閱讀..
半導體先進製程必備 AMC 防治！濾能預計 6 月下旬掛牌上櫃 作者 姚 惠茹|發布日期 2022 年 05 月 31 日 17:05 | 分類 晶圓 , 會員專區 , 材料、設備 | edit 濾能董事長黃銘文今日表示，當半導體走向 3 奈米先進製程，對於無塵室 AMC 微污染控制的要求就越高，因此隨著半導體產業持續擴廠，濾能未來營運都能維持樂觀成長態勢，預計今年 6 月下旬掛牌上櫃，並將在明日舉辦業績發表會。 繼續閱讀..
