Tag Archives: 光學技術

NVIDIA 算力架構為 Scale-Up 光互連發展鋪路，預估 CPO 於 AI 資料中心滲透率將逐年提升

作者 TechNews|發布日期 2026 年 03 月 11 日 14:35 |

分類 AI 人工智慧 , Nvidia , 網路

根據 TrendForce 最新高速互連市場研究，輝達（NVIDIA）下世代的AI算力櫃架構顯示，未來 GPU 設計重心將轉向更高密度的晶片互連，和更高速的資料傳輸，機櫃內晶片互連（Scale-Up）及跨機櫃的大規模互連（Scale-Out）將成規劃資料中心的核心課題。使用銅纜的傳統電氣傳輸方案，受物理限制無法應對超大規模的資料搬運需求，光學傳輸方案因此獲得發展空間。TrendForce預估，CPO（共同封裝光學）在 AI 資料中心光通訊模組的滲透率將逐年成長，有機會於 2030 年達 35%。繼續閱讀..

半導體產業爭霸賽誰能勝出？關鍵仍在光學技術

作者 TechNews|發布日期 2020 年 02 月 05 日 8:45 |

分類光電科技 , 材料、設備 , 零組件

荷蘭政府近日根據瓦森納國際協議（Wassenaar Arrangement），禁止 ASML 公司向中國出口極紫外光刻機（Extreme Ultraviolet，EUV Lithography）；中國駐荷蘭大使反嗆要以中荷關係為要脅，要求荷蘭政府取消禁令。光刻設備是半導體製程中最重要的設備，全球又僅有 ASML 能提供最高階的光刻設備，美國要求荷蘭政府禁止 ASML 向中國輸出這設備，可說是掐住中國半導體產業的咽喉。半導體產業爭霸賽的關鍵，無疑就是光刻設備需要仰賴的「光學技術」。

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Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權半導體設備市場掀波瀾

作者 Atkinson|發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 |

分類光電科技 , 晶片 , 會員專區

根據《路透社》的報導，日本光學大廠尼康（Nikon）於 24 日表示，已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML Holding NV）和合作夥伴卡爾蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律訴訟，並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影（lithography）技術專利用於光刻機上，並運用在半導體製造業中。

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