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半導體先進製程必備 AMC 防治!濾能預計 6 月下旬掛牌上櫃

作者 |發布日期 2022 年 05 月 31 日 17:05 | 分類 晶圓 , 材料、設備 , 證券

濾能董事長黃銘文今日表示,當半導體走向 3 奈米先進製程,對於無塵室 AMC 微污染控制的要求就越高,因此隨著半導體產業持續擴廠,濾能未來營運都能維持樂觀成長態勢,預計今年 6 月下旬掛牌上櫃,並將在明日舉辦業績發表會。

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