中國科學家開發突破性固態 DUV 雷射光源，可應用半導體製造設備 作者 林 妤柔|發布日期 2025 年 03 月 23 日 18:15 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備 | edit 國際光電工程學會（SPIE）報導，中國科學院（CAS）研究人員成功研發突破性的固態深紫外（DUV）雷射，能發射 193 奈米的相干光（Coherent Light），該波長目前被用於半導體曝光技術。而這項技術已在中國實驗室實現。 繼續閱讀..
荷蘭禁令將至！中國進口曝光機設備年增 65%，超越 ASML 今年目標 作者 陳 冠榮|發布日期 2023 年 08 月 27 日 18:29 | 分類 半導體 , 國際觀察 , 晶片 | edit 中國調研機構集微諮詢（JW Insights）報告指出，今年中國從荷蘭進口曝光機金額激增，由於中國晶圓廠趕在荷蘭禁令實施前囤積設備，1~7 月曝光機進口總額已超越半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）今年目標。 繼續閱讀..
荷蘭公布半導體設備管制措施！限制 DUV 曝光機出口到中國 作者 姚 惠茹|發布日期 2023 年 06 月 30 日 17:48 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 晶片 | edit 荷蘭政府今日正式公布最新半導體設備管制措施，要求先進晶片製造設備業者，出口 DUV（深紫外光）曝光機都必須申請許可，雖然相關管制措施沒有提到中國或 ASML（艾司摩爾），但是相當於限制 ASML 的 DUV 曝光機出口到中國，並預計管制措施將在 9 月 1 日生效。 繼續閱讀..
