Tag Archives: DUV 曝光機

荷蘭禁令將至！中國進口曝光機設備年增 65%，超越 ASML 今年目標

作者陳冠榮|發布日期 2023 年 08 月 27 日 18:29 |

分類半導體 , 國際觀察 , 晶片

中國調研機構集微諮詢（JW Insights）報告指出，今年中國從荷蘭進口曝光機金額激增，由於中國晶圓廠趕在荷蘭禁令實施前囤積設備，1~7 月曝光機進口總額已超越半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）今年目標。

荷蘭公布半導體設備管制措施！限制 DUV 曝光機出口到中國

作者姚惠茹|發布日期 2023 年 06 月 30 日 17:48 |

分類半導體 , 國際貿易 , 晶片

荷蘭政府今日正式公布最新半導體設備管制措施，要求先進晶片製造設備業者，出口 DUV（深紫外光）曝光機都必須申請許可，雖然相關管制措施沒有提到中國或 ASML（艾司摩爾），但是相當於限制 ASML 的 DUV 曝光機出口到中國，並預計管制措施將在 9 月 1 日生效。