晶圓代工龍頭台積電近日表示,將延遲採用艾司摩爾 (ASML) 最先進的晶片製造設備至 2029 年,此消息引發市場關注,並導致 ASML 股價在交易日中出現波動。
台積電延遲到 2029 年才考慮採用 High-NA EUV,因為設備售價非常非常貴 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2026 年 04 月 23 日 12:40 | 分類 半導體 , 國際觀察 , 國際貿易 |
ASML 下週公布 2025 年財報,市場樂觀看待 High-NA EUV 將帶動營運 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2026 年 01 月 19 日 11:40 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 財經 | edit |
隨著全球半導體產業競逐更先進的製程節點,半導體微影設備大廠艾司摩爾(ASML Holding N.V.)正處於一場製造技術重大變革的核心。根據 Zacks 投資研究發布的最新分析報告, ASML 的 High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光) 技術正取得顯著進展,不僅重新定義了邏輯晶片與 DRAM 的生產模式,更成為推動該公司 2026 年營收成長的關鍵引擎。因此,即將於 28 日公布的 2025 年第四季與 2025 年全年財報備受到市場的關注。
傳英特爾增購 ASML High-NA EUV,14A 節點成生死關鍵 |
| 作者 蘇 子芸|發布日期 2025 年 09 月 25 日 13:00 | 分類 半導體 | edit |
英特爾近日傳出向 ASML 再度下單,將 High-NA EUV 設備的採購量從一台增加至兩台。突顯公司正把資本支出重點鎖定在 14A 節點。 繼續閱讀..
