曝光微影設備大廠艾司摩爾 (ASML) 技術長 Martin van den Brink 接受外媒 Bits & Chips 採訪，表示新一代 High-NA EUV 微影曝光設備照時程開發，可能打亂時程就只供應鏈問題。High-NA EUV 下一代 Hyper-NA 微影曝光設備也正開發，成本為關鍵。
ASML：High-NA EUV 按時程發展，新世代 Hyper-NA 成本為最大關鍵 |
作者
Atkinson|發布日期
2022 年 09 月 29 日 15:30 |
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