美國新創公司 Substrate 週二（28 日）透露，他們已開發出一款晶片製造工具，有能力與荷蘭半導體設備龍頭 ASML 最先進曝光設備競爭。 繼續閱讀..
挑戰台積電、ASML！美新創開發 X 光曝光技術，有望顛覆高價 EUV 晶片製造 |
作者
林 妤柔|發布日期
2025 年 10 月 29 日 9:50 |
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