ASML 獲美國客戶大單,15 台 EUV 極紫外光系統待出貨

作者 | 發布日期 2015 年 04 月 22 日 17:50 | 分類 市場動態 , 零組件
asml。取自官網

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)今日宣布接獲一家美國主要客戶的訂單──至少採購 15 台 EUV 極紫外光微影系統。該客戶預計將 EUV 微影系統用於未來先進製程中,支援其新世代產品的研發和試產。其中,2 台 NXE:3350B 預計於 2015 年底前完成出貨。




EUV 極紫外光微影技術是實現持續製程微縮的重要半導體曝光技術,相較於目前先進製程所使用的浸潤式(immersion)微影技術,EUV 的好處是能夠簡化先進製程的製造工序,同時達到提升良率和縮短生產時間的效益。今年適逢摩爾定律發表 50 周年,EUV 被半導體業界視為能讓摩爾定律往下延續的重要關鍵技術,可以讓晶片上覆載更多電晶體,同時降低晶片單位功能成本並提升能源效率。

ASML 總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)表示,「EUV 現在已經接近量產階段。在長期規劃和周邊支援系統(ecosystem)的準備方面,EUV 都獲得半導體業界的強力支持,預料這將啟動全球半導體產業的另一波創新。」

(首圖來源:ASML) 

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