ASML 獲美國客戶大單，15 台 EUV 極紫外光系統待出貨

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）今日宣布接獲一家美國主要客戶的訂單──至少採購 15 台 EUV 極紫外光微影系統。該客戶預計將 EUV 微影系統用於未來先進製程中，支援其新世代產品的研發和試產。其中，2 台 NXE:3350B 預計於 2015 年底前完成出貨。

EUV 極紫外光微影技術是實現持續製程微縮的重要半導體曝光技術，相較於目前先進製程所使用的浸潤式（immersion）微影技術，EUV 的好處是能夠簡化先進製程的製造工序，同時達到提升良率和縮短生產時間的效益。今年適逢摩爾定律發表 50 周年，EUV 被半導體業界視為能讓摩爾定律往下延續的重要關鍵技術，可以讓晶片上覆載更多電晶體，同時降低晶片單位功能成本並提升能源效率。

ASML 總裁暨執行長溫彼得（Peter Wennink）表示，「EUV 現在已經接近量產階段。在長期規劃和周邊支援系統（ecosystem）的準備方面，EUV 都獲得半導體業界的強力支持，預料這將啟動全球半導體產業的另一波創新。」

（首圖來源：ASML）