台積電晶圓良率提升的秘密武器──奈米微粒監控系統

作者 | 發布日期 2015 年 11 月 13 日 12:30 | 分類 晶片 , 會員專區 , 軟體、系統 follow us in feedly


在半導體濕式製程中,晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學溶液進行,而溶液中奈米粒子的尺寸與分布會影響晶圓電路圖案(pattern)的製程結果,必須持續監控溶液中粒子的大小及數量,只要發現溶液粒子不符規格,就必須馬上暫停及更換,才能維持產品良率。

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