三星與華為在美達成和解,化解 2 年多來專利侵權糾紛

作者 | 發布日期 2019 年 02 月 27 日 14:35 | 分類 Samsung , 手機 line share follow us in feedly line share
三星與華為在美達成和解,化解 2 年多來專利侵權糾紛


觀察者網報導,根據美國科技網站 CNET 消息,當地時間 26 日,曾因專利糾紛打了逾兩年官司的三星、華為達成和解,三星和華為要求一家法院中止處理相關訴訟程序。

2016 年華為與三星互指對方違反協議,侵犯自己的專利。根據計畫,該案預計將於今年 9 月開庭審理,屆時陪審團將聽取三星有關華為違背 FRAND(公平、合理和非歧視)原則的主張。

2016 年華為對三星提起訴訟,指三星非法使用了其技術,其中主要涉及 4G 通訊技術、智慧手機操作功能相關軟體。華為指出,包括 Galaxy S7 / S7 edge 在內的近 20 款三星終端產品,涉嫌侵權其 2010 年申請的「一種可應用於終端元件顯示的處理方法和使用者設備」專利。2017 年,泉州中院裁定三星因侵犯專利賠償華為 8,000 萬人民幣經濟損失。

根據向法院提交的聯合動議證實,華為和三星於本週達成庭外和解協定,至少對於在美國的訴訟進行和解。聯合文件中指出,雙方達成了和解協定,根據協定,雙方將在未來數週採取措施,完成和解訴訟工作,華為將在 30 天內提交撤訴文件。目前尚不清楚華為和三星和解協定內容,三星和華為尚未對此置評。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:shutterstock)