Tag Archives: 卡爾蔡司

艾司摩爾 EUV 設備生產不順,原因是卡爾蔡司鏡頭供應不足

作者 |發布日期 2017 年 10 月 12 日 17:55 |
分類 GPU , 國際貿易 , 晶片

目前半導體製程已微縮到 10 奈米以下,大家都寄望藉由極紫外光微影設備(EUV)協助製程向前發展,也使摩爾定律(Moore’s Law)再往下延伸。不過就目前生產 EUV 設備的艾司摩爾(ASML)來說,因為製造難度,已積壓了大量訂單在手上。有國外媒體指出,艾司摩爾 EUV 設備生產不順的主因,就是來自光學鏡頭供應商蔡司(Carl Zeiss)供貨進度跟不上需求所致。

繼續閱讀..

Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾

作者 |發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 |
分類 光電科技 , 晶片 , 會員專區

根據 《路透社》 的報導,日本光學大廠尼康(Nikon) 於 24 日表示,已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML Holding NV)和合作夥伴卡爾蔡司(Carl Zeiss AG)提起法律訴訟,並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影(lithography)技術專利用於光刻機上,並運用在半導體製造業中。

繼續閱讀..