搶攻先進半導體製程商機，科磊宣布推出 5 種顯影控制系統
作者 | 發布日期 2017 年 09 月 12 日 18:37 | 分類 晶片 , 會員專區 , 處理器 line share follow us in feedly line share
搶攻先進半導體製程商機，科磊宣布推出 5 種顯影控制系統


為爭取新世代先進半導體製程商機，半導體檢測大廠美商科磊（KLA-Tencor）公司於 12 日宣布，針對 7 奈米以下的邏輯和記憶體設計節點，推出 5 款顯影成型控制系統，幫助晶片製造商實現多重曝光技術和極紫外線（EUV）微影所需的嚴格製程公差。

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