ASML 以 3 種方式控制半導體微影設備恆溫，以打造奈米等級晶片
作者 | 發布日期 2019 年 07 月 23 日 10:00 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片 line share follow us in feedly line share
ASML 以 3 種方式控制半導體微影設備恆溫，以打造奈米等級晶片


最近天氣熱到受不了，人們都想找方法消暑。對半導體製程重要的微影設備，在作業過程產生的熱能如何散熱，全球最大微影設備製造商艾司摩爾（ASML）說，以下 3 種就是讓微影設備保持恆溫的方式。

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