EVG 全新微米及奈米壓印解決方案亮相,強化晶圓級光學元件量產能力

作者 | 發布日期 2022 年 01 月 20 日 8:25 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區 line share follow us in feedly line share
EVG 全新微米及奈米壓印解決方案亮相,強化晶圓級光學元件量產能力


半導體晶圓設備供應商 EV Group(EVG)宣布,推出新一代奈米壓印與晶圓級光學系統 EVG 7300,可在單一平台上結合如奈米壓印微影技術(NIL)、透鏡壓鑄與透鏡堆疊(UV 接合)等多重基於 UV 架構的製程;並支援大至 300 毫米的晶圓尺寸,並具備高精度對準功能、先進製程控制與高製程產出量,滿足各種自由形式及高精度奈米和微型光學元件與設備的量產需求,如晶圓級光學(WLO)、光學感測器與投影機、汽車照明等。